新聞資訊

2018-12-24

蘇大維格自主研發的激光圖形化直寫設備MiScan成功進入歐洲市場

近日,蘇大維格團隊帶著公司自主研發的激光圖形化直寫設備MiScan200前往歐洲交付調試,團隊憑借專業的技術能力及嚴謹的工作態度深受客戶好評。

2018-11-12

2018蘇大維格集團知識產權年會暨模擬法庭”圓滿落幕

11月9日,由蘇州蘇大維格科技集團股份有限公司主辦,蘇州市育山科技協會、江蘇簡文律師事務所協辦的“2018蘇大維格集團知識產權年會暨模擬法庭”圓滿落幕。本次年會旨在通過現場交底書撰寫與模擬法庭實戰演練的方式,提升研發人員對專利文本的理解,以及IP人員的實務水平。相信通過每年舉辦實戰活動和激勵措施,以及日常系列培訓和每周定期的交流挖掘,公司研發人員的技術及交底能力和整體知識產權實力會有質的提升。

2018-10-17

慶祝改革開放40年 蘇州上市企業巡禮 | 蘇大維格:攻克“無人區” 搶占市場高地

蘇大維格科技集團股份有限公司總裁朱志堅看來,蘇大維格一直以研發、自主創新作為企業的發展思路,以拒絕做“跟隨者”的態度,攻克所屬領域的“無人區”,他相信企業會越來越堅定,把技術開發和創新做好,迎接更大的發展。

2018-06-26

全國機動車號牌企業技術交流會在蘇州順利召開2018年6月

全國機動車號牌企業技術交流會于2018年6月1日-2日在美麗的蘇州—書香世家酒店(月亮灣店)舉辦,再次為各企業單位之間搭建一個技術交流的平臺,來自全國各省、市、自治區的28家號牌制作單位,共55人參加了本次會議。

 

背光模組超薄導光板(膜)

熱壓印工藝將精密模具上微結構復制到光滑塑性板材或薄膜表面,微光學網點結構有效地將全內反射進入導光板(膜)光線導出表面。通過微結構優化中大尺寸導光板(膜),光線從接近正出射角度導出,亮度更高,更均勻。

 

大尺寸透明導電膜(模組)

“基于柔性納米壓印技術”的新型透明導電膜制造技術,采用micro-metal-mesh(M3)制程工藝,顛覆了精密電路需要蝕刻的傳統工藝,通過納米壓印和增材制造(選擇性生長),獲得大幅面高性能透明導電膜和自支撐透明導電材料

 

創新 + 資本+ 產業的官助民營新型研究院

蘇州蘇大維格科技集團股份有限公司

 

總部

蘇州市新昌路68號,蘇州工業園區(獨墅湖大道南側,與金堰路交叉口)
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最新公告

2019-01-09

項目介紹:面向微納3D形貌的紫外光刻直寫技術與設備

超薄化、輕量化意味著微納結構的運用。然而,大面積3D微納結構的設計與制造面臨巨大挑戰。首先,大面積3D微納結構涉及海量數據處理與設計。例如,一個超薄導光器件上的微透鏡有數千萬個以上;一件口徑10mm以上的超透鏡,含有數十億到數百億個數據單元;一幅大尺寸透明電路傳感器涉及數十Tb以上的數據量;大口徑薄膜成像透鏡涉及精確3D形貌,數據量會數量級增大;第二,將設計數據轉換成微納結構的途徑與效率。如何將這么龐大數據直接轉換成微納3D結構?不僅需要高速率海量數據并行處理、壓縮、傳輸與轉化技術,還需轉換系統的高精度、可調性與可靠性;第三,先進工藝技術保障。大面積襯底伴隨著不平整度遠大于光刻系統的焦深,因此,必須解決襯底不平整性對微結構分辨率和保真度的影響,解決與成像焦深的矛盾,才能實現高保真3D微結構的高效率制備。

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2019-01-09

項目介紹:光場調控的納米光刻設備NanoCrystal200

研究表明,微納尺度界面與光電子相互作用產生的效應,是設計超材料、超表面的新途徑。微納結構制造技術是實現薄膜成像、透明導電、電磁隱身等技術基礎。由于3D 形貌及其排列精度對光子材料與器件的特性有極其重要的影響,因而,在大面積襯底上實現納米精度的微納結構的高效制備,一直是國際關注的重大共性難題。

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2019-01-09

項目介紹:微納3D打印/光刻技術與設備

在微結構打印方案中,已有的3D打印技術存在諸多限制,未有效解決器件尺寸與精度之間的矛盾、也存在3D結構打印保真度與可靠性不協調的難題。1、利用超快激光的“雙光子效應”的3D打印,分辨率可達0.1微米,但串行寫入模式,效率極低、對環境穩定性要求極高,打印尺寸一般小于300微米。由于耗時太長,所以,可靠性降低;受制于非線性材料特性和處理工藝,打印一致性很難保障;2、光固化3D打印(SLA),利用膠槽供膠與DLP投影光逐層打印的方法,打印的特征尺寸一般大于50微米,受投影比例限制,打印面積數毫米。由于累積曝光效應,對膠槽中光固化膠的吸收特性有嚴格要求,易導致打印的結構展寬,尤其對大深寬比微結構的打印,失真嚴重。

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2018-12-24

蘇大維格攻克了AR納米波導鏡片批量化關鍵技術

蘇大維格依托多參數調控的納米光柵直寫設備 Nanocrystal200、納米光柵曝光與復制工藝,實現納米全息波導鏡片復雜結構單元的精確制備,納米結構周期調控精度達0.1nm。該自主研發的納米圖形化光刻設備,可實現納米光柵深度、傾角、周期分布和空間取向的調控,輸出的空間成像的光場均勻。攻克了波導鏡片的制備的穩定性、一致性工藝,以及波導鏡片的工程化和批量化的相關關鍵技術。支持更多的設計自由度和制作具有大FOV的納米全息波導鏡片。

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